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我国光学薄膜精密微复制技术取得重大突破

2017-11-13 08:40 作者:谭元斌 来源:新华社 编辑:郑雪婧
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经过3年科技攻关,我国光学薄膜精密微复制技术取得重大突破,乐成打破外洋技术垄断。这是记者10日从湖北省国防科工办和湖北航天化学技术研究所获得的消息。

据介绍,光学薄膜精密微复制技术是在光学薄膜基材外貌精密涂布特定配方树脂,然后在拥有特定设计纳微尺度几何结构的镌刻辊上成型的技术。其广泛应用于液晶平板显示器背光模组增亮膜和扩散膜、门路交通标识微棱镜反光膜、液晶显示器掩护用防反射膜和防窥膜、裸眼3D显示功效膜以及家电用仿金属拉丝高光膜等。这些产物附加值高,市场需求大,要害技术一直掌握在外洋公司手中。

2014至2016年,湖北航天化学技术研究所肩负湖北省重大科技专项“光学薄膜精密微复制工艺制备要害技术开发及应用”,先后开展了结构设计、刻印树脂配方研究和涂布工艺研究,近日已通过湖北省科技厅验收。

湖北航天化学技术研究所相关卖力人说,他们设计出特殊外貌涂层微结构,开发出特殊刻印涂层树脂配方,在光学薄膜刻印涂层反面接纳防眩、防划伤或防静电处置惩罚,提高产物收益率20%以上,极大地提高了我国新质料必博国际工业链科技水平。

据介绍,目前,这项技术已在重要国防项目中获得应用,申报发现专利10件。



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